Оборудование для фотокислородной очистки
принцип УФ - фотолитической очистки
В процессе используется высокоэнергетический ультрафиолетовый луч для облучения молекулярных связей зловонного газа (промышленных выхлопных газов), а также для расщепления молекулярных связей зловонных газовых веществ, таких как бензол, толуол, ксилол, неметановые общие углеводороды, эфиры и т.д., аммиак, триметиламин, сероводород, метилтион, метилтиол, метилэфир, диметилсульфид углерода, стирол, сульфиды и т.п. Окисление озоном атомов загрязняющих веществ, находящихся в свободном состоянии, в небольшие молекулярные безвредные или маловредные вещества, такие как CO2, H2O и т.д.
Xingmao основана на преимуществах отрасли Сломанная линейная плита, и ее суть заключается в том, что поставщики услуг "обращают внимание на таланты" - Xingmao считает, что хорошее предприятие будет уделять внимание развитию талантов. В этом случае разработка Сломанная линейная плита корпоративного обучения особенно важна. Прежде всего, обучение - это потребность предприятий сферы услуг в участии в рыночной конкуренции. В нынешней ситуации конкуренция предприятий Сломанная линейная плита - это, в конечном счете, конкуренция технических талантов Оборудование для фотокислородной очистки. В дополнение к сотрудничеству с профессиональными и техническими колледжами Сломанная линейная плита для найма подходящих талантов, более эффективным способом является повышение профессиональных и технических качеств существующих сотрудников Оборудование для фотокислородной очистки посредством отраслевого обучения Сломанная линейная плита, чтобы они могли стать Оборудование для фотокислородной очистки техническими талантами для удовлетворения потребностей Сломанная линейная плита предприятия.