Оборудование для фотокислородной очистки
принцип УФ - фотолитической очистки
В процессе используется высокоэнергетический ультрафиолетовый луч для облучения молекулярных связей зловонного газа (промышленных выхлопных газов), а также для расщепления молекулярных связей зловонных газовых веществ, таких как бензол, толуол, ксилол, неметановые общие углеводороды, эфиры и т.д., аммиак, триметиламин, сероводород, метилтион, метилтиол, метилэфир, диметилсульфид углерода, стирол, сульфиды и т.п. Окисление озоном атомов загрязняющих веществ, находящихся в свободном состоянии, в небольшие молекулярные безвредные или маловредные вещества, такие как CO2, H2O и т.д.
Причина, по которой клиенты выбирают сотрудничество с Xingmao, ключевым моментом которого является "культура обучения" поставщика услуг - Xingmao твердо верит, что обучение ведет к таланту, эффективности и качеству. Регулярное обучение является важной частью работы головного офиса "Токмак Региональные поставщики услуг безопасности Оборудование для фотокислородной очистки для Печатная плата литиевой батареи сломана и переработана--Xingmao". Сохраняйте первоначальное намерение и усердно учитесь. Xingmao Тренировочной работе нет конца, только когда она продолжается!