Оборудование для фотокислородной очистки
принцип УФ - фотолитической очистки
В процессе используется высокоэнергетический ультрафиолетовый луч для облучения молекулярных связей зловонного газа (промышленных выхлопных газов), а также для расщепления молекулярных связей зловонных газовых веществ, таких как бензол, толуол, ксилол, неметановые общие углеводороды, эфиры и т.д., аммиак, триметиламин, сероводород, метилтион, метилтиол, метилэфир, диметилсульфид углерода, стирол, сульфиды и т.п. Окисление озоном атомов загрязняющих веществ, находящихся в свободном состоянии, в небольшие молекулярные безвредные или маловредные вещества, такие как CO2, H2O и т.д.
В чем преимущества сотрудничества? Ключевые слова: поставщик услуг "команда талантов" - Xingmao считает, что хорошее предприятие Xingmao будет придавать большое значение развитию талантов. В этом случае разработка Оборудование для фотокислородной очистки корпоративного обучения особенно важна. Прежде всего, обучение - это потребность предприятий сферы услуг в участии в рыночной конкуренции. В нынешней ситуации конкуренция предприятий Сломанная линейная плита - это, в конечном счете, конкуренция технических талантов Оборудование для фотокислородной очистки. В дополнение к сотрудничеству с профессиональными и техническими колледжами Сломанная линейная плита для найма подходящих талантов, более эффективным способом является повышение профессиональных и технических качеств существующих сотрудников Оборудование для фотокислородной очистки посредством отраслевого обучения Сломанная линейная плита, чтобы они могли стать Оборудование для фотокислородной очистки техническими талантами для удовлетворения потребностей Сломанная линейная плита предприятия.