Оборудование для фотокислородной очистки
принцип УФ - фотолитической очистки
В процессе используется высокоэнергетический ультрафиолетовый луч для облучения молекулярных связей зловонного газа (промышленных выхлопных газов), а также для расщепления молекулярных связей зловонных газовых веществ, таких как бензол, толуол, ксилол, неметановые общие углеводороды, эфиры и т.д., аммиак, триметиламин, сероводород, метилтион, метилтиол, метилэфир, диметилсульфид углерода, стирол, сульфиды и т.п. Окисление озоном атомов загрязняющих веществ, находящихся в свободном состоянии, в небольшие молекулярные безвредные или маловредные вещества, такие как CO2, H2O и т.д.
Омск Поставщики Оборудование для фотокислородной очистки для Печатная плата литиевой батареи сломана и переработана--Xingmao В чем преимущества сотрудничества?Философию бизнеса "честность и беспроигрышность" Xingmao можно обобщить в восьми словах: "честность и беспроигрышное развитие". Xingmao всегда успешно применяла эту концепцию как для своих внутренних сотрудников, так и для внешних Оборудование для фотокислородной очистки партнеров, тем самым завоевывая долгосрочную хорошую деловую репутацию и отношения сотрудничества в области Сломанная линейная плита и способствуя стабильному развитию Xingmao.