Оборудование для фотокислородной очистки
принцип УФ - фотолитической очистки
В процессе используется высокоэнергетический ультрафиолетовый луч для облучения молекулярных связей зловонного газа (промышленных выхлопных газов), а также для расщепления молекулярных связей зловонных газовых веществ, таких как бензол, толуол, ксилол, неметановые общие углеводороды, эфиры и т.д., аммиак, триметиламин, сероводород, метилтион, метилтиол, метилэфир, диметилсульфид углерода, стирол, сульфиды и т.п. Окисление озоном атомов загрязняющих веществ, находящихся в свободном состоянии, в небольшие молекулярные безвредные или маловредные вещества, такие как CO2, H2O и т.д.
Почему многие клиенты Оборудование для фотокислородной очистки предпочитают сотрудничать с армения Будьте уверены в сервисном бизнесе Оборудование для фотокислородной очистки для Печатная плата литиевой батареи сломана и переработана--Xingmao?Сосредоточьтесь на "культурной концепции" поставщика услуг - Xingmao всегда верит в то, что: корпоративная культура объединяет сердца людей, а выдающиеся таланты формируют высококачественную продукцию! компания Xingmao, которая на протяжении многих лет придерживалась направления Сломанная линейная плита и изобретательно создавала продукты Оборудование для фотокислородной очистки, всегда придавала большое значение влиянию культурных концепций на предприятия! Корпоративная культура является душой и краеугольным камнем развития Xingmao, и формирование корпоративной культуры Xingmao ни в коем случае не является результатом одного дня.